光学纳米压印脱模性能评测试验系统

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光学纳米压印脱模性能评测试验系统

       本系统可测量模型材料表面与光硬化性树脂的表面剥离数据。极具优势的细微加工法——光学纳米压印光刻技术运用接触型造型法,可将拥有细微凹凸的模型从光硬化性树脂表面剥离。这种技术可用于分析剥离工艺,延长模型寿命,以及新的开发研究。系统含有模型定位台、紫外线照射用光学系统、剥离评测夹具,可在接近实际工艺的状态下,测量模型材料表面与经紫外线光照射而硬化的光硬化性树脂表面的剥离力。
※本系统系与东北大学共同研发。